特种气体供应商

特种气体，是指在特定领域中应用的，对气体有特殊要求的纯气，高纯气体，或者纯气体，由高纯单质气体配置的二元或者多元混合气。

特种气体在现代生活中运用广泛，工厂、医疗、食品、娱乐等都涵盖，下面列举下部分特种气体包括些什么：

1 氮气-N2，纯度要求>99．999%，用作标准气体、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻，退火 搭接、烧结等工序；电器、食品包装，化学等工业也要用氮气。
2 氧气-O2,>99．995％，用作标准气体、在线仪表标准气体、校正气、零点气；还可用于医疗气，在半导体器件制备工艺中用于热氧化，扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序，以及用于光导纤维的制备。
3 氩气-Ar，>99．999％，用作标准气体、零点气、平衡气；甩于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延，扩散、氮化，喷射，等离子干刻、载流、退火搭接，烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氩。
4 氢气-H2,> 99.999%，用作标准气体、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气; 在半导体器件制备工艺中用于晶体生长，热氧化，外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序；在化学，冶金等工业中也有用。
5 氦气-He，>99.999% ，用作标准气体、零点气 平衡气，校正气、医疗气、用于半导体器件错备工艺中晶体生长，等离子干刻 载流等工序；另外，特种混合气与工业混台气也常用。四氯化硅-SiCl4，>99.999% ，用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。

6 四氯化锡-SnCl4，>99.9% ，用于外延，离子注入。
7 四氯化锗-Gecl4 ，>99.999％，用于离子注入。
8 四氯化钛-TiCl4，>99.99％，用于等离子干刻。
9 五氯化磷-PCl5 ，>99.99％，用于外延、离子注入。
10 五氯化锑-SbCl6 ，>99.99％，用于外延、离子注入。
11 六氯化钼-MoCl6 ，>99.9% ，用于化学气相淀积。
12 三溴化硼-BBr3，>99.99% ，用于半导体器件制备工艺中离子注入工序和制备光导纤维。
13 三溴化磷-PBr3 ，>99.99％，用于外延、离子注入。
14 磷酰氯-POCl3，>99.999％，用于扩散工序。
15 三氟化硼-BF3，>99.99％，用于离子注入，另外，可作载气、某些有机反应的催化剂，精炼镁，锌、铝、铜合金时从熔化金属中除掉氮，氧、碳化物。